|
عنوان
|
حذف آلاینده تتراسایکلین از طریق جذب و فرآیند فتوکاتالیستی با استفاده از کامپوزیت NC/Fe3O4
|
|
نوع پژوهش
|
مقاله ارائه شده
|
|
کلیدواژهها
|
نانوسلولز، نانوذرات مغناطیسی، تتراسایکلین، کامپوزیت NC/Fe3O4، فتوکاتالیست
|
|
چکیده
|
نانوسلولز (NC) که از سلولز طبیعی مشتق میشود، بهعنوان یک بیوپلیمر کارآمد بهدلیل ویژگیهای ممتازی همچون سازگاری زیستی، فعالبودن سطح، فراوانی، سبکی و عدم سمیت، پتانسیل بالایی در کاربردهای کاتالیستی از خود نشان میدهد. ساختار منحصر به فرد نانوسلولز امکان استفاده گسترده از آن را در فرآیندهای تخریب نوری فراهم میسازد. نانوسلولز با ساختار سهبعدی متخلخل و گروههای عاملی هیدروکسیل، بهعنوان بستری پایدار برای تثبیت نانوذرات Fe3O4 عمل کرده و موجب پراکندگی یکنواخت و جلوگیری از تجمع آنها شد. نانوذرات Fe3O4 نیز با خاصیت فتوکاتالیستی و مغناطیسی خود، امکان تخریب مؤثر تتراسایکلین تحت تابش نور مرئی و بازیابی آسان کاتالیست را فراهم کردند. کامپوزیت متشکل از نانوسلولز (NC) و نانوذرات Fe3O4 به وسیله روش های طیف سنجی زیر قرمز (FT-IR) و طیف سنجی UV-Vis مورد شناسایی قرار گرفت. در این مطالعه ما کامپوزیت فتوکاتالیستی NC/Fe3O4 را سنتز کردیم. این کامپوزیت با داشتن مساحت سطح ویژه، استحکام بالا، چگالی کم با یک روش سنتز هیدروترمال ساده تهیه شد. قابلیت فتوکاتالیستی نانوسلولزها را میتوان با ترکیب آن با نانوذرات مغناطیسی (Fe3O4) بهبود بخشید که منجر به افزایش کارایی فتوتخریب تتراسایکلین میشود. ارزیابی عملکرد فتوکاتالیستی این کامپوزیت در تخریب آنتیبیوتیک تتراسایکلین نشان داد که این کامپوزیت قادر است حدود 73/76 درصد از آلاینده را در مدت زمان 90 دقیقه تابش نور مرئی و 30 میلیگرم کاتالیزور در 4=pH تجزیه کند. این نتایج نشان داد که کامپوزیت
NC/Fe3O4 عملکرد بسیار خوبی در تخریب فتوکاتالیستی تتراسایکلین دارد.
|
|
پژوهشگران
|
سیامک امیری (نفر اول)، محمدجواد جهانشاهی (نفر دوم)
|